クリーンルームにおける有機ガス汚染評価に関する研究
クリーンルーム雰囲気中の有機ガス汚染物質を評価することを目的として、半導体や液晶工場でのサンプリングを容易にするため、シリコンウエハや液晶ガラス基板表面に吸着した有機物質を評価する方法として溶媒抽出拭取り法を検討し、その有効性を確認した。また、クリーンルーム雰囲気中へのシリコンウエハ暴露の代替としてシリコンウエハを破砕した細片を捕集管に充填し雰囲気空気を強制的に捕集するSi捕集管法を提案しその有効性を示した。
A Study on The Methods of Evaluating Organic Gaseous Contaminants in Clean Room
We have been investigating the methods of evaluating organic gaseous contaminants in clean room air. We estimated the surface contaminants on Si wafer and glass substrates exposed in clean rooms for LSI devices and LCD manufacture by wiping the surface of Si wafer with hexane. We have also proposed a new method, i.e., Si wafer adsorbor tube, to evaluate the organic contaminants which are adsorbed on Si wafer surface. It is concluded that these methods are useful in evaluating components and quantity of organic contamination on Si wafer surface and glass substrate.
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